Étape 2
Le savon nettoyant moussant et le masque facial à l'argile (en masque 2 à 3 fois par semaine) éliminent les impuretés, les cellules mortes et les résidus de sébum qui obstruent les pores. Donne à la peau de l'éclat et une sensation de fraîcheur.
Contient de l'"argile de beauté" Tanakura détoxifiante qui absorbe l'excès de sébum et les toxines pour garantir un teint propre et une sensation de peau fraîche. Touche légère et sensation de fraîcheur..
Ce savon nettoyant moussant est utilisé comme étape 2 du rituel de double nettoyage. Appliquez le matin et/ou le soir après l'étape 1 en plaçant 1 ou 2 perles de produit dans votre main et en ajoutant de l'eau pour créer une mousse. Appliquer sur la peau et masser doucement sur le visage en mouvements circulaires, en insistant sur les zones les plus problématiques. Enlever avec le chef éponge ou rincer à l'eau. Comme masque facial, appliquer après un double nettoyage directement sur le visage et/ou les zones à problèmes en créant une couche de 1 mm d'épaisseur, laisser agir pendant 5 minutes et retirer avec le chef éponge ou rincer à l'eau.
Extrait de soie de Koishimaru, extrait de ginseng, poudre de Kanzo, extrait de Quillai et extrait de Shiso pour un nettoyage en profondeur, non irritant, apaisant et extrêmement hydratant.
INGREDIENTES: GLYCERIN, MYRISTIC ACID, AQUA, POTASSIUM HYDROXIDE, PEG-32, PEG-6, PALMITIC ACID, LAURIC ACID, DIPROPYLENE GLYCOL, GLYCERYL STEARATE SE, SODIUM METHYL COCOYL TAURATE, SQUALANE, PARFUM, TALC, TETRASODIUM EDTA, DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE, TANAKURA CLAY, POLYQUATERNIUM-39, BUTYLENE GLYCOL, ACETYL GLUCOSAMINE, ALUMINUM HYDROXIDE, ALCOHOL, HYDRATED SILICA, QUILLAJA SAPONARIA BARK EXTRACT, HYDROLYZED SILK, PANAX GINSENG ROOT EXTRACT, PERILLA OCYMOIDES LEAF EXTRACT, SODIUM BENZOATE, PHENOXYETHANOL, BENZOIC ACID, ALPHA-ISOMETHYL IONONE, LIMONENE, LINALOOL, CI 77492, CI 77499, CI 77891, CI 77947
